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东丨东企（f）NT-2.9样品中占主导的（111）方向的XRD图谱。（b，全国c）NT-2.9样品的TEM和HRTEM图像测量的晶粒尺寸及孪晶片层分布。
欢迎大家到材料人宣传科技成果并对文献进行深入解读，近半投稿邮箱[email protected]。图二、年迁NT-Ni的力学性能图三、NT-Ni的持续强化图四、NT-Ni的变形机理（A）明场图像显示了样品剪切失效和柱状晶粒。【小结】综上所述，入山作者通过直流电沉积获得了具有极细孪晶片层厚度的NT-Ni，其强度高达4.0GPa，远高于已知纯Ni的强度。
结果表明，业超即使晶粒尺寸或孪晶厚度低于10 nm，也能实现连续强化。最多本文由材料人CYM编译供稿。
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将溶质原子偏析在GBs和TBs可以有效降低迁移驱动力，全国从而抑制GBs和TBs迁移，即抑制NG/NT合金的软化效应。（e-g）CTAB、近半PVP55k、I−和BME在55、40、36和40个纳米片上的吸附亲和力（K）和协同性（h）的面和子面差异。
年迁（b-c）蓝色/红色区域的一维（1D）投影。为改进这些应用或探索新应用，入山非常有必要定量地了解分子在表面的吸附行为。
业超（g-h）CTAB和PVP55k的亚粒子h与K相关性。（d-f）在20、最多15、21和44个纳米棒上CTAB、PVP55k和I−Br−的吸附亲和力（K）和协同性（h）的面和子面差异。
